Шэньчжэньская компания CKD Technology Co., Ltd.
Шэньчжэньская компания CKD Technology Co., Ltd.
Продукты
Продукты
МЫС10иЛ
  • МЫС10иЛМЫС10иЛ

МЫС10иЛ

Серия MYS – плазменная система MYS10iL
Легко справляется с обработкой поверхности крупноформатных изделий.
В условиях быстрого роста рынков сборки электроники и полупроводников требования отрасли к эффективности и надежности производства продолжают расти. Устраняя время ожидания, связанное с традиционной вакуумно-плазменной обработкой, системы очистки серии MYS обеспечивают значительно более высокую производительность и общую производительность, обеспечивая при этом безопасное обращение со всеми чувствительными электронными компонентами.

CKD Technology не только имеет на складе совершенно новые машины, которые доступны немедленно.

У нас также есть детальный бизнес по аренде, готовый удовлетворить ваши конкретные производственные потребности, значительно снизив при этом ваши первоначальные инвестиции. Свяжитесь с нами для получения более подробной информации.

В CKD работает команда профессиональных инженеров, готовых предоставить услуги «под ключ».

По вопросам продажи подержанных машин свяжитесь с нами через Whatspp или по электронной почте.

-------------------------------------------------------------------------------------


Особенности продукта

Серия MYS10iL — это полностью автоматизированная поточная система плазменной обработки, разработанная для применения в различных секторах, включая полупроводники, электронику, SMT, оптоэлектронику и медицинские технологии.


• Аргоноплазменная система атмосферного давления.

• Поточная плазменная обработка шириной 100 мм; обеспечивает в 2–5 раз более высокую эффективность и более чем на 30 % снижение эксплуатационных расходов по сравнению с традиционными методами.

• 100% нейтральная плазма; безопасен и щаден для чувствительных электронных компонентов — без плазменной бомбардировки, статического электричества, искр, дуг, пыли, высоких температур, поверхностной ряби или ультрафиолетового излучения.

• Универсальные химические процессы: процесс O2 для удаления органических загрязнений; Процесс H2 для удаления оксидов металлов и активации поверхностей изделий.

• Не образует на продукте твердых частиц или жидких загрязнений.

MYS10iL

Технические характеристики

Основные параметры МЫС10иЛ
Требования к питанию 200~240 В переменного тока, 4,5 кВт, 20 А, 50/60 Гц
Требования к давлению воздуха 90 фунтов на квадратный дюйм (6 бар)
Размеры 1000 х 1500 х 1550 мм
Масса 1050 кг
Сертификация CE
Точность позиционирования XY: ±50 мкм при 3σ; Z: ±10 мкм при 3σ
Повторяемость по оси XYZ XY: ±25 мкм при 3σ; Z: ±5 мкм при 3σ
Максимальная скорость 1000 мм/с (XY)
Ускорение 1,0 г
Система привода Сервопривод переменного тока
Параметры рабочей платформы
Тип конвейера Пояс
Грузоподъемность конвейера 3 кг
Диапазон толщины печатной платы (без держателя) 0,5–6 мм
Перемещение по оси Z 60 мм
Макс. Высота компонента (верхняя сторона) 45 мм
Макс. Высота компонента (нижняя сторона) 23 мм
Протокол связи СМЕМА
Рабочий диапазон
Зона плазменной обработки (Ш × Г) 550–760 мм
Угол контакта с водой (WCA) после плазменной обработки WCA < 10° (кремниевая пластина)
WCA < 20° (Неметаллические материалы)
Плазменный метод лечения Процесс O2 для удаления органических загрязнений
H2-процесс удаления оксидов металлов
Требования к оборудованию плазменной системы
ВЧ мощность 600 Вт при 27,12 МГц
Основной плазменный газ Аргон
Технологический газ O2, N2 или H2
Диапазон давления подачи газа 40–100 фунтов на квадратный дюйм (0,3–0,7 МПа)







Горячие Теги: Датчик MYS10iL, поставщик промышленных датчиков, высокоточный датчик
Отправить запрос
Контакты
  • Адрес

    5-й этаж, корпус 2, № 182, улица Чанъань Сиань, город Чанъань, Дунгуань, провинция Гуандун, Китай.

  • Электронная почта

    info@techckd.com

Если у вас есть какие-либо вопросы по поводу предложения или сотрудничества, пожалуйста, отправьте электронное письмо или воспользуйтесь следующей формой запроса. Наш торговый представитель свяжется с вами в течение 24 часов.
X
Мы используем файлы cookie, чтобы предложить вам лучший опыт просмотра, анализировать трафик сайта и персонализировать контент. Используя этот сайт, вы соглашаетесь на использование нами файлов cookie.политика конфиденциальности
ОтклонятьПринимать